دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش:
نویسندگان: Yao N. (ed.)
سری:
ISBN (شابک) : 0521831997
ناشر: CUP
سال نشر: 2007
تعداد صفحات: 408
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 13 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Focused ion beam systems به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب سیستم های پرتوی یونی متمرکز نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
سیستم پرتو یون متمرکز (FIB) ابزار مهمی برای درک و دستکاری ساختار مواد در مقیاس نانو است. ترکیب این سیستم با یک پرتو الکترونی یک DualBeam را ایجاد می کند - یک سیستم واحد که می تواند به عنوان یک ابزار تصویربرداری، تحلیلی و اصلاح نمونه عمل کند. این جلد ویرایش شده که برای اولین بار در سال 2007 منتشر شد، با ارائه اصول، قابلیت ها، چالش ها و کاربردهای تکنیک FIB، به طور جامع فناوری پرتو یونی از جمله DualBeam را پوشش می دهد. اصول اولیه سیستمهای پرتو یونی و دو پرتو، برهمکنش آنها با مواد، اچ کردن و رسوبگذاری، و همچنین خصوصیات درجا مواد، آمادهسازی نمونه، بازسازی سهبعدی و کاربردها در بیومواد و نانوتکنولوژی پوشش داده شدهاند. با توجه به اهمیت فزاینده مواد نانوساختار در دستگاههای میکرومکانیکی، الکترونیکی و مغناطیسی، این بررسی مستقل از طیف روشهای پرتو یونی، مزایای آنها و بهترین زمان اجرای آنها منبع ارزشمندی برای محققان در علم مواد، مهندسی برق و فناوری نانو است. .
The focused ion beam (FIB) system is an important tool for understanding and manipulating the structure of materials at the nanoscale. Combining this system with an electron beam creates a DualBeam - a single system that can function as an imaging, analytical and sample modification tool. Presenting the principles, capabilities, challenges and applications of the FIB technique, this edited volume, first published in 2007, comprehensively covers the ion beam technology including the DualBeam. The basic principles of ion beam and two-beam systems, their interaction with materials, etching and deposition are all covered, as well as in situ materials characterization, sample preparation, three-dimensional reconstruction and applications in biomaterials and nanotechnology. With nanostructured materials becoming increasingly important in micromechanical, electronic and magnetic devices, this self-contained review of the range of ion beam methods, their advantages, and when best to implement them is a valuable resource for researchers in materials science, electrical engineering and nanotechnology.